一、工艺流程
该方法基于在一定条件下，四卤化锆可被还原成三卤化物，而四卤化铪不易被还原，从而达到分离锆铪的目的。所用的原料是粗Zr(Hf)Cl4。这是一个很有前途的方法。国外已完成半工业试验，工艺流程见图1。
图1四氯化锆(铪)选择性还原分离工艺流程
二、主要反应
还原和歧化:
3ZrCl4(g)+Zr=4ZrCl3(s)
3HfCl4(克)+Zr=3HfCl3(秒)+ZrCl3(秒)
hfcl 3(s)+zrcl 4(g)= hfcl 4(g)+zrcl 3(s)
氯化锆(克)+氯化锆(秒)= 2氯化锆(秒)
三氯化锆歧化成二氯化锆的反应很复杂，其反应如下:
12 zrcl 3(s)= 10 zrcl 2.8(s)+2 zrcl 4(g)(115 ~ 300℃)
10 zrcl 2.8(s)= 5 zrcl 1.6(s)+5 zrcl 4(g)(310 ~ 450℃)
5 zrcl 1.6(s)= 4 zrcl(s)+zrcl 4(g)(500 ~ 600℃)
4 zrcl(s)= 3Zr(s)+zrcl 4(g)(570 ~ 700℃)
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