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钨的化验方法(比色法测定钨)

钨的化验方法(比色法测定钨) 水平电极散射法测定钨、锡、钼和铋

一、方法提要 本法以SiO2、碳粉为缓冲剂,Ge为内标,在大型光栅摄谱仪上,用水平电极撒样的方式进行摄谱,增加了交流电弧的电流强度和曝光量,提高了待测元素的检出限,一次摄谱同时测定试样中的W、Sn、Mo、Bi、检出限(Wb/10-6)为:W1,Sn、Mo0.1,Bi0.1。 二、标准试样的制备 在人工配制的硅酸盐岩石基体中,加入光谱纯W、Sn、Mo、Bi的氧化物,先配1000×10-6主标准,然后依次用基体(参见YD1.1.4-91)稀释成(300、100、30、10、3、1、0.3、0.1)×10-6标准系列的试样。 三、仪器及工作条件 仪器:ДΦC-13(2)型平面光栅摄谱仪,光栅刻线1200条/mm,闪耀波长350.5nm,中间波长297.5nm,狭缝宽26µm,中间光栏5×7mm。 激发光源:WPF-21型交直流电弧发生器,电压220V。 水平撒样装置及摄谱条件:SB28型水平电极撒样装置,抽风压为25mmU形管水柱差。电流26A,预燃5s,曝光35s。 缓冲剂:SiO2+碳粉=2+1,加入0.11%GeO2作内标元素。 相板及暗室处理:天津紫外Ⅰ型感光析。A、B显影液,20℃显影3min,定影至透明。 分析线对测定范围:各元素的分析线对及测定范围见下表。表中 各元素的分析线对及测不定范围
元素分析线,纳米内部标记,nm测量范围,Wb/10-6钨锡钼铋294.6982289.6446289.6008283.9989285.0618317.0347281.6154306.7716289.7975312.4817312.4817312.4817312.4817312.4817312.4817312.4817312.4817312.48171-3030-100100-10001-3030-10000.5-1010-30000.1-1010-300

测光和工作曲线绘制:蔡司II千分尺,P刻度,工作曲线由△P-lgC制作。四。分析步骤:称取250毫克样品和100毫克缓冲液,根据工作条件进行光谱分析。5.注意第(1)项要求样品尺寸为0.100-0.080mm (2)取谱时严格控制弧隙保持一致。注意调节振荡器的可变电阻,以控制样品铺展速度均匀稳定。(3)当样品中Fe2O3含量达到10%时,W的测定结果较高,特别是对于低含量W,这种影响随着Fe含量的增加而增加。(4)本方法仅适用于硅酸盐岩石样品的分析。

关键词TAG: 有色金属 
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