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直读光谱法测定矿石中的氧化铍

直读光谱法测定矿石中的氧化铍 DCP直读光谱法测定矿石中氧化铍:& nbsp& nbsp一、方法总结& nbsp& nbsp& nbsp样品经脱硅后,用KOH熔融,用HCl酸化,加入适量的HClO4除去80%的K+,然后加入锗和锂的混合溶液,用DCP单道直读光谱法测定。 本方法适用于岩石和矿石中w(Be0)/10-2=0.001-2.5的测定。 & nbsp& nbsp& nbsp二。试剂准备:& nbsp& nbsp高标准溶液:空向白色溶液中加入0.5mg Be0,输入2.5%。 & nbsp& nbsp& nbsp低标准溶液:试剂空白色溶液的处理与样品相同。输入“O ”,微机将扣除空白。 & nbsp& nbsp& nbsp锗混合溶液:用100mg/mL LiCl和100 & microG/mL Ge4+(使用前将Ge02溶解在KOH溶液中并用HCl中和) & nbsp& nbsp& nbsp铍标准溶液:称取0.1OOOg优级纯Be0于300mL烧杯中,加入l0mL H2SO4(1+1),加热至Be0完全溶解,取出,冷却,用水转移至1000mL容量瓶中,稀释至刻度,混匀。 该溶液含有100 & micro克/毫升BeO 将该溶液分装,用2%(V/V)HCl稀释,使其含有40 & microG/mL Be0标准溶液 部分Be0含有水,一部分Be0应在900℃下燃烧以获得烧失量,稀释时应对溶液进行校正。 & nbsp& nbsp& nbsp三。仪器 工作条件:& nbsp;& nbspspectra spanⅲA型阶梯光栅直读光谱仪 工作条件如下:(1)多通道暗盒:用锗参比通道调节波长,再用铍通道测量。仪器的入射狭缝为50×300 & micro;m,波长和出射狭缝Ge265.llnm,25×300 & micro;m,Be234.86nm,50×300 & micro;m,整数l0s (2)光源:三电极DC等离子体系统,前后阳极为石墨电极,阴极为含钍钨棒。 每个电极7A的工作电流 瓷套压力为0.345MPa,前后阳极氢气流量为0.9L/min,阴极氢气流量为1.8L/min。 (3)雾化系统:十字气动雾化器,雾化压力0.138MPa,溶液提升量1.6mL/min。 & nbsp& nbsp& nbsp四。分析步骤:& nbsp& nbsp标准校正 键盘向计算机发送高低标准含量值。 喷高标准溶液,用锗参比通道调节波长,然后调节自动量程校正高标准。 然后喷低标准溶液进行校正。 然后依次测定样品溶液,每份;测量10-15个样品后,重新校准高低标准。 含0.1%、0.2%和0.4%Be0的标准也可用于测定和检验。 & nbsp& nbsp& nbsp样品测定 称取0.2000g样品于30mL银坩埚中,加入1.5mL HF和2滴H2SO4(1+1+1),加热蒸发至干,再加入1mL HF加热蒸发。 加入4g KOH和0.1g KCl,在电炉上加热驱除水分,然后放入马弗炉中逐渐升温至700-720℃,保持10-15分钟,取出。 冷却后,将坩埚放入250毫升烧杯中,用15-20毫升沸水浸提,用热水冲洗坩埚,加入10毫升盐酸酸化,冷却后,移入50毫升比色管中,用水稀释至刻度,混匀,放置澄清。 在50毫升烧杯中吸取10毫升澄清液体,加入4毫升水,加热至沸点,在振荡下加入2.5毫升HClO4(1+1+1),冷却沉淀出KClO4。 将溶液和沉淀物转移到含有2.5mL锗锂混合物的25mL比色管中,用水洗涤烧杯,稀释至刻度,混匀。 用DCP法在电脑上测量(当W (Be0)/10-2 > 0.2时,应读取2-3次,并报平均值) & nbsp& nbsp& nbsp五、注意事项& nbsp& nbsp& nbsp(1)按上述操作,用HCl酸化后,过剩酸度约为1mol/L,用HCl04沉淀的K+过剩量应为25%。 (2)2)KOH熔融后,若用水浸出,氢氧化物沉淀法对Be0的吸附率为5-20%(远大于NaOH法),故加过量HCl酸化后分离试液。 (3)钾盐的存在能增强Be的光谱激发和电离(约增强50%),故应严格控制条件。 (4)当w(Be0)/10-2=0.05时,40% Fe、10% Ti、5% Zr、15% al、5% Ni、25% Mn和20mg NaCl的存在不影响Be的测定。 当含有10%W和25% Cu时,弱谱线W234.86nm和Cu234.88nm的影响在10%以内。 关键词:标签:稀有金属 
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